Hallo,

ich bin an der Oberflächenladung einer 20nm dicken amorphen Al2O3 Schicht in DI Wasser interessiert. Die Fläche wurde mit Hilfe eines ALD Verfahrens und TMA/H2O als Precursor hergestellt. Ich finde im Netz einfach keine Quellen die so etwas schon mal bestimmt haben.

Vielleicht könnt Ihr mir ja helfen.

Alternativ würde ich es auch selber messen. Gibt es eine einfache Methode die OF Ladung zu messen, oder kann man sie am besten gleich ausrechnen?

Grüße
Und Danke schon mal